KD-2140M_深圳市康迪科光电新材料有限公司

KD-2140M干膜是用于制造印刷线路板的感光抗蚀干膜。结合了现代最先进感光材料的设计技术和涂布技术开发而成。

KD-2140M干膜是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于波长为365nm或405nm激光直接成像系统。可在温度30±2℃的弱碱性溶液如碳酸钠(Na2CO3)中得到完全显影，然后在低浓度的碱性溶液如氢氧化钠(NaOH),氢氧化钾(KOH)或有机胺类去膜液中剥膜。

KD-2140M干膜是可以运用在电镀和酸性蚀刻工艺的高性能干膜。KD-2140M的光阻剂层厚度为1.5mil(38µm)，夹在聚脂薄膜（PET)和聚乙烯膜(LDPE)之间。

简介：

KD-2140M干膜是用于制造印刷线路板的感光抗蚀干膜。结合了现代最先进感光材料的设计技术和涂布技术开发而成。

KD-2140M干膜是可以运用在电镀和酸性蚀刻工艺的高性能干膜。KD-2140M的光阻剂层厚度为1.5mil(38µm)，夹在聚脂薄膜（PET)和聚乙烯膜(LDPE)之间。

特点：

· 高解析

· 抗电镀性能好

· 附着力好

· 耐化学性好

· 曝光前后色差明显便于检查

特性：

1.此款干膜为普通干膜，适用于LED曝光机

2.良好的附着力和高解析度

3.适用于直接成像365nm波长曝光系统的精细线路制作

4.脱膜性优良，线路显像性稳定

5.抗电镀效果好

6.水溶性干膜