KC-2140DI干膜是一种中高性能、全水溶性的干膜光阻剂,应用于外层线路制作,特别适用于波长为355nm或405nm激光直接成像系统。可在温30±2℃的弱碱性溶液如碳酸钠(Na2CO3)中得到完全显影,然后在低浓度的碱性溶液如氢氧化钠(NaOH),氢氧化钾(KOH)或有机胺类去膜液中剥膜。
KC-2140DI干膜是可以运用在电镀工艺的高性能干膜。KC-2140DI的光阻剂层厚度为1.5mil(38µm),夹在聚脂膜(PET)和聚乙烯膜(PE)之间。
简介:
KC-2140DI干膜是一种中高性能、全水溶性的干膜光阻剂,应用于外层线路制作,特别适用于波长为355nm或405nm激光直接成像系统。可在温30±2℃的弱碱性溶液如碳酸钠(Na2CO3)中得到完全显影,然后在低浓度的碱性溶液如氢氧化钠(NaOH),氢氧化钾(KOH)或有机胺类去膜液中剥膜。
KC-2140DI干膜是可以运用在电镀工艺的高性能干膜。KC-2140DI的光阻剂层厚度为1.5mil(38µm),夹在聚脂膜(PET)和聚乙烯膜(PE)之间。
特点:
· 抗电镀性能好
· 附着力好
· 曝光速度快
· 高解析度
· 边墙直
· 性能稳定
· 曝光前后色差明显便于检查
特性:
1.良好的附着力和高解析度
2.快速的曝光显影能力和退膜速度
3.适用于直接成像405nm波长曝光系统的精细线路制作
4.脱膜性优良,线路显像性稳定
5.抗电镀效果好
6.水溶性干膜